海外：お知らせ
中国の国家知的財産権局が特許・商標審査の「第15次五ヶ年計画」を発表
2026-11-10
中国国家知的財産権局は、今後の特許・商標審査の指針となる「第15次五ヶ年計画」を正式に発表しました。
2030年までに世界最高水準の特許・商標審査機関の確立を目指し、審査能力を世界リードレベルまで引き上げる方針です。
重点課題として、
・特許審査の高品質化
・商標審査の質・効率向上
・国際審査協力と海外出願支援の強化
・審査人材・基盤能力の向上
の4分野が掲げられました。
また、先端技術に対応する「新興分野の特許審査規則改善」や「商標審査品質向上」、AI技術を導入する「人工知能＋審査」をはじめとする7つの特別プロジェクトも新たに立ち上げられました。今後は関係部門や各階層の連携を強化し、年次計画に基づく徹底した進捗管理と定期評価、対外的な法的広報活動を推進していく見込みです