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NEWS
NOTE
2026-02-25
海外:商標法
リビアで商標の更新制度が10年一括更新のみとなります
2026-02-25
国内:意匠法
第21回意匠制度小委員会(令和7年12月15日)開催概要の議事録が公開されました
2026-02-17
海外:お知らせ
中国で商標オンライン出願システムの停止についてお知らせがありました
2026-02-16
海外:お知らせ
ジャージー商標制度の重要な変更について
2026-02-15
海外:お知らせ
イスラエル:意匠の国際登録(ハーグ協定)個別指定手数料の改定について
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2026-02-25
商標審査基準改定の方向へ(令和8年4月1日施行へ)
2026-01-22
商標審査基準改定についの話し合い(第37回商標審査基準ワーキンググループ)
2025-12-24
意匠制度に関する産業構造審議会知的財産分科会での議論
2025-11-26
韓国商標法概説
2025-10-30
仮想空間における意匠法での保護と問題点(産業構造審議会:意匠制度小委員会)
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